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2200℃ 下装载高真空气氛烧结炉 VAHBP-2200

VAHBP-2200是一款2200℃下装载高真空气氛烧结炉,其特点是使用高纯钨丝或钨网作为发热元件。该设备主要用于金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中的烧结或退火处理。此外它也可用于金属材料的热处理。

技术资料

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设备特点

设备采用立式式炉体设计,具有下装载样品结构。使用高纯钨网作为发热体,能够实现360°环形面加热,确保温度均匀性好并且控温精度高。

由直联机械泵、分子泵及高真空阀门组成,确保设备在工作过程中能够达到所需的真空度。

采用PLC结合触摸屏的控制方式,使得操作更为方便,同时自动化程度也相对较高。

设备还配备有单路进气系统,以满足不同的工作需求。

设备结构

采用 SS304 不锈钢水冷真空腔体

底部样品台气动升降,装卸样方便快捷

极限真空度:10-5Pa

最高工作温度:2200℃

真空腔室预留进气口(通保护气体),一个排气口(通空气)

基本参数

AC380V 三相

功率:25KW

加热区域尺寸:Φ100*210mm

可放样品尺寸:φ80mm×100mm

加热元件:钨加热器,环形分布加热

加热元件最高工作温度:2200℃(≤1 小时)

测温元件:C 型钨铼热电偶进行测温和控制

控温精度:300~2250 ±0.5℃

炉膛结构

采用全金属多层隔热屏(由钨片、高温钼片、不锈钢组成),具有洁净度高、透气性号的特点

真空腔体

采用 SS304 不锈钢水冷真空腔体,冷态极限真空6.67×10-5Pa;

压升率:≤4Pa/h   

充气压力:≤0.03Mpa(Ar、N2)

密封法兰

密封法兰:采用双层水冷结构,设有热电偶测温孔与炉体O圈紧固真空密封,设水冷装置。

密封方式:采用电动推进螺栓密封方式

下装载样品台:采用钨杆、料盘、定位柱、隔热屏定位柱、气缸进出样品。

控制系统
PLC+可预存多条温度工艺曲线;

工艺存储界面.jpg

程序设置.png

嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸触屏输入,智能式人机对话模式,避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦

实时界面.png


非线性式样温度修正;具有预约启动功能。

非线性温度修正.jpg

预约界面.jpg

具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能;

温区超温.jpg

热电偶断线.jpg

带有无纸记录功能对数据进行实时采集

记录曲线.jpg

数据导出.jpg

供气系统标配浮子子流量计,如需高精度控制气体流量可选配质量流量控制器。
真空系统冷态下最高真空度:   6*10-5Pa(采用分子泵机组,配套抽真空口CF110 接口

前级机械泵:

型号:VRD-16

抽气口接口尺寸:KF25

抽气速率:4L/S

电机功率:400W

极限压强 6×10-2 Pa

分子泵

抽气速率:100L/S

极限压强:6X10-6Pa

启动时间:<2min

额定转速:43000转/分

冷却方式::风冷/水冷

分子泵控制器:  

电压:200~240V

输出功率:250W

加速时间:3分钟

输出频率:高速704Hz±10%低速430 Hz±10%

复合真空计:

工作电电压:220V   50~60HZ

电阻规阻值:约85 欧

自动保护(电离)>10Pa

电离规管测量范围:100~1.0*10-5Pa

电阻规管测量范围:105 ~1.0*10-1 pa

水冷机

型号:CW-6300

制冷量:28498 Btu/h

压缩机功率:2.8KW

水箱容量:45L

流量:70-116 L/min

产品尺寸1300mm L*1700mm H*800mmW
重量约420kg 
质保一年保质期,终生维护(产品相关易耗品不在保修范围内)