2200℃ 下装载高真空气氛烧结炉 VAHBP-2200
VAHBP-2200是一款2200℃下装载高真空气氛烧结炉,其特点是使用高纯钨丝或钨网作为发热元件。该设备主要用于金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中的烧结或退火处理。此外它也可用于金属材料的热处理。
技术资料
相关产品
设备特点 | 设备采用立式式炉体设计,具有下装载样品结构。使用高纯钨网作为发热体,能够实现360°环形面加热,确保温度均匀性好并且控温精度高。 由直联机械泵、分子泵及高真空阀门组成,确保设备在工作过程中能够达到所需的真空度。 采用PLC结合触摸屏的控制方式,使得操作更为方便,同时自动化程度也相对较高。 设备还配备有单路进气系统,以满足不同的工作需求。 | |
设备结构 | 采用 SS304 不锈钢水冷真空腔体 底部样品台气动升降,装卸样方便快捷 极限真空度:10-5Pa 最高工作温度:2200℃ 真空腔室预留进气口(通保护气体),一个排气口(通空气) | |
基本参数 | AC380V 三相 功率:25KW 加热区域尺寸:Φ100*210mm 可放样品尺寸:φ80mm×100mm 加热元件:钨加热器,环形分布加热 加热元件最高工作温度:2200℃(≤1 小时) 测温元件:C 型钨铼热电偶进行测温和控制 控温精度:300~2250 ±0.5℃ | |
炉膛结构 | 采用全金属多层隔热屏(由钨片、高温钼片、不锈钢组成),具有洁净度高、透气性号的特点 | |
真空腔体 | 采用 SS304 不锈钢水冷真空腔体,冷态极限真空6.67×10-5Pa; 压升率:≤4Pa/h 充气压力:≤0.03Mpa(Ar、N2) | |
密封法兰 | 密封法兰:采用双层水冷结构,设有热电偶测温孔与炉体O圈紧固真空密封,设水冷装置。 密封方式:采用电动推进螺栓密封方式 下装载样品台:采用钨杆、料盘、定位柱、隔热屏定位柱、气缸进出样品。 | |
控制系统 | PLC+可预存多条温度工艺曲线; | |
嵌入式操作系统中英文互换图形界面,7寸触屏输入,智能式人机对话模式,避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦 | ||
非线性式样温度修正;具有预约启动功能。 | ||
具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能; | ||
带有无纸记录功能对数据进行实时采集 | ||
供气系统 | 标配浮子子流量计,如需高精度控制气体流量可选配质量流量控制器。 | |
真空系统 | 冷态下最高真空度: 6*10-5Pa(采用分子泵机组,配套抽真空口CF110 接口 前级机械泵: 型号:VRD-16 抽气口接口尺寸:KF25 抽气速率:4L/S 电机功率:400W 极限压强 6×10-2 Pa 分子泵 抽气速率:100L/S 极限压强:6X10-6Pa 启动时间:<2min 额定转速:43000转/分 冷却方式::风冷/水冷 分子泵控制器: 电压:200~240V 输出功率:250W 加速时间:3分钟 输出频率:高速704Hz±10%低速430 Hz±10% 复合真空计: 工作电电压:220V 50~60HZ 电阻规阻值:约85 欧 自动保护(电离)>10Pa 电离规管测量范围:100~1.0*10-5Pa 电阻规管测量范围:105 ~1.0*10-1 pa | |
水冷机 | 型号:CW-6300 制冷量:28498 Btu/h 压缩机功率:2.8KW 水箱容量:45L 流量:70-116 L/min | |
产品尺寸 | 1300mm L*1700mm H*800mmW | |
重量 | 约420kg | |
质保 | 一年保质期,终生维护(产品相关易耗品不在保修范围内) |