浏览次数：97
2200℃高真空石墨烧结炉VAHBP-2200
VAHBP-2200是一款2200℃下装载高真空气氛烧结炉，其特点是使用高纯石墨作为发热元件。该设备主要用于金属化合物、陶瓷、无机化合物等在真空或保护气氛中的烧结或退火处理。此外它也可用于金属材料的热处理。
技术资料
相关产品
设备特点 | • 设备采用立式式炉体设计，具有下装载样品结构。使用高纯石墨作为发热体，能够实现360°环形面加热，确保温度均匀性好并且控温 精度高。 • 可根据客户需求选配直联机械泵或分子泵及高真空阀门组成，确保设备在工作过程中能够达到所需的真空度。 • 采用PLC结合触摸屏的控制方式，使得操作更为方便，同时自动化程度也相对较高。 • 设备还配备有单路进气系统，以满足不同的工作需求。 |
结构特点 | • 采用 SS304 不锈钢水冷真空腔体 • 底部样品台气动升降，装卸样方便快捷 • 极限真空度：10-5Pa（采用分子泵） • 最高工作温度：2200℃ • 真空腔室预留进气口（通保护或还原性气体），一个排气口（通空气） |
工作电源 | • AC380V 三相 • 最大总功率：29KW |
加热元件 | • 可放样品最大尺寸：约φ60mm×60mm • 加热元件：石墨加热器，环形分布加热 • 加热元件最高工作温度：2200℃（≤1 小时） |
炉膛结构 | • 采用多层隔热屏、隔热屏采用石墨及石墨毡材料制作等组成，具有洁净度好、透气性好的特点。 |
真空腔体 | • 采用 SS304 不锈钢水冷真空腔体， 冷态极限真空6.67×10-5Pa（选配分子泵组）；<10Pa(选配机械泵) • 压升率：≤4Pa/h • 充气压力：≤0.03Mpa（Ar、N2） |
密封法兰 | • 上端密封法兰：采用双层水冷结构，内壁为不锈钢304抛光，外壁为优质不锈钢抛光处理;开设热电偶测温孔,与炉体“0”圈 紧固真空密封，设水冷装置。 • 下端密封法兰：采用双层水冷结构，内壁为不锈钢304抛光，外壁为优质不锈钢抛光处理与炉体“0”圈真空密封。 • 密封方式：采用电动推进螺栓密封方式 • 下装载样品台：采用不锈钢圆板内壁，设钨杆、料盘、定位柱、隔热屏定位柱，开设密封槽、汽缸进出启闭进出料。 |
测温元件 | • C 型钨铼热电偶进行测温和控制 • 红外测温仪用于温度检测参考 |
控温精度 | • 600~2250±0.5℃ |
温度控制 | • PLC+人机界面控制可预存多条温度工艺曲线，避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦； • .嵌入式操作系统中英文互换图形界面，10寸触屏输入，智能式人机对话模式，非线性式样温度修正； |
| 安全防护 | • 具有超温报警、断偶提示、漏电保护等功能； • 带有无纸记录功能对数据进行实时采集 |
气体流量控制 | 气体流量控制装置主要由进气阀、浮子流量计(或选配质量流量计)、进气管道、排气阀等组成，用于工艺所需充氩气、氮气的气氛要求， 最大充气压力≤0.03MPa(微正压、表压)。、 |
真空泵（选配） | • 抽气口接口尺寸：KF25 • 抽气速率：16m3/h • 电机功率：2.2KW • 极限压强 5×10-1 Pa |
真空计
| • 测量范围：1.0×10-2～1.067×105Pa • 测量精度：1.0*103Pa ~1.067*105 Pa ±0.15%的满量程 1.0×10-1～1.0×102Pa ±10%的读数 • 通讯速率：9600/19200/38400bps • 通讯地址：00-98 • 电压输出：满量程5V或10V可选 • 转换公式：V=4+lg P P=10V-4 (V:电压，P:压力Pa) • 气体类别选择：0.20～8.00 • 安装方向：任意无限制 • 电源电压：18～30VDC • 电源功率：1.4W(开机时2W) |
