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1500C双温区多通道低真空组合式CVD系统 TP-1500-T2ZD

TP-1500-T2ZD 是一款专为科研和工业应用设计的高性能双温区多通道低真空组合式化学气相沉积（CVD）系统。这款系统是由1500℃双温区管式炉、多通道质量流量供气系统及低真空机系统组成。这款系统具有出色的温度控制精度、稳定性和可靠性，适用于真空或气氛保护下各种材料的生长和制备，如半导体材料、纳米材料、薄膜材料等。

400-878-2836

技术资料

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应用领域	电子行业: 用于制备各种金属薄膜、氧化物薄膜、导电膜等；半导体行业: 用于制备多层膜、二氧化硅薄膜、氮化物薄膜等；光学行业: 用于制备各种光学薄膜、增透膜、反射膜等，其他领域:如生物医学、新能源材料等领域也有广泛的应用。
管式炉特点	双层风冷壳体结构；模块化:模块化设计维护便捷，组合灵活；采用真空成型工艺制作的耐火保温材料，热损耗小，有效地降低了设备的使用功率；氧化铝管塞可帮助您在管内建立完美的温度梯度；触摸屏操作，直观显示温度曲线；具有全程非线性温度修正；具有预约启动功能，节约烧结时间；
加热元件	硅碳棒 (12根)
最高工作温度	1500℃（<2h） 1450℃（长期工作温度）
升降温速率	≤10℃/min
加热区长度	240+240mm
温控系统	采用7寸真彩触屏输入、精密温度控制器 PID方式控制，通过可控硅 SCR 可预存15条30段升降温曲线，避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦；嵌入式操作系统中英文互换图形界面，智能式人机对话模式，实验过程更加直观，操作更加便捷；非线性式样温度修正；带有超温及断偶保护
控温精度	±1℃
炉管材质和尺寸	高纯氧化铝 Al2O3 陶瓷管外径: 60 mm：内径: 50mm x1200 mm L（标配）外径: 80 mm：内径: 70mm x1200 mm L（选配）
密封法兰	一套不锈钢密封法兰，法兰上已经安装机械压力表和密封阀门漏率达5X10^-9 Pam³/s
输入电源	AC 220V, 单相, 50/60Hz, 功率：6KW
真空系统和配件	抽速m/h(L/s)：4(1.1) 极限分压强-无气镇（Pa）：5×10^-2 进排气连接口DN(mm）：KF25 用油量（L)：0.6L 压阻皮拉尼复合型规管：测量范围：1.0×10^-2～1.067×10⁵Pa 测量精度：1.010³Pa ~1.06710⁵ Pa ±0.15%的满量程　　　　　1.0×10^-1～1.0×10²Pa　 ±10%的读数波纹管：KF25*800 油雾过滤器：KF25 卡箍及链接管件(焊接）：KF25 连接管件：高真空手动隔断阀采用氟胶圈密封快卸法兰接口漏率：达5X10^-9 Pam³/s 全不锈钢电抛光制作零件焊接漏率优于1×10^-9Pa.m³/s
气体流量计	压差范围：0.05-0.4MPa 精度：±1% FS 重复精度：±0.2% FS 流量范围：50、100、200、500、1000Sccm可供客户选择流量计类型：进口质量流量器接口尺寸：Φ6.35mm双卡套接头连接管道：采用洁净抛光的气路专用耐腐不锈钢管或耐腐蚀抗老化的聚四氟乙烯气管（可选）气体转换系数：系统可按要求自动转换不同气体密度，显示正确流量。
外形尺寸	炉体尺寸：600720520mm 混气系统：700700650mm 真空机组：700700650mm
质保期	一年质保期，相关耗材除外，如炉管，密封圈等易耗件