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PECVD系统（集成气化装置）
该PECVD系统配置高精度全封闭式液体气化装置，为表面薄膜沉积实验提供包含有毒液体在内的气化条件。系统由高稳定性射频电源（200W，13.56MHz）、气体流量控制系统及真空系统组成，采用集中总线控制技术的普若菲特操作软件。利用等离子体特性来控制或影响气相反应和材料表面的化学反应过程，并在 适当的温度下沉积薄膜。PECVD淀积的薄膜具有优良的电学性能、良好的衬底附着性以及极佳的台阶覆盖性，正由于这些优点使其在超大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。
技术资料
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产品特点 | 1、集成液体气化系统，可稳定提供包括有毒液体在内的反应气体条件； 2. 清洗镀膜一气呵成，杜绝二次污染； 3、上开启式结构，方便观察试样； 4、产品采用全自动控制方式，触摸屏，数字化显示； 5、设备一体化程度高； 6、稳定的射频电源，均匀的温度分布，提高成膜质量； 7、出色的电磁波屏蔽方案，高效、安全！ 8、数据存储功能（无纸记录功能），可保存烧结的重要参数； 9、具有全程非线性温度修正，预约启动功能，节约烧结时间； 10、具有物联网功能（WIFI），可通过手机、电脑远程对设备进行监控，操作； | |
加热炉参数 | ▪ 最高工作温度:1200℃（<30min） ▪ 连续使用温度:≤1150℃； ▪ 控温精度：±1℃； ▪ 炉膛尺寸:150*200mm ▪ 炉管尺寸：Φ80*1200mm ▪ PID触屏温度控制器及30段可编程温控系统，带有超温和断偶保护 ▪ 输入电源： 208-240V 4KW ▪ 内炉膛表面涂有高温氧化铝涂层，可以提高设备加热效率及反射率，同时延长仪器的使用寿命 ▪ 注意：炉管为损耗材料，购买前请与我们销售确定炉管相关事宜 | |
射频电源 | 我公司现有300W或500W功率的射频电源可供选择，以满足不同实验条件的需求。 输出功率：300/500W可调（稳定性：±1%） 射频频率：13.56 MHz（稳定性：±0.5%） 匹配模式：自动匹配 噪音：＜50dB 冷却方式：风冷 | |
真空系统 | ▪ 采用VRD-16的双旋真空泵； ▪ KF25卡箍及波纹管用于连接管式炉与真空泵； ▪ 真空度可达10-1Pa。 搭配VRD-16的双旋真空泵（抽速4.4L/s）（总进气量小于150sccm，该泵可以达到等离子发生真空度） 搭配VRD-30双旋真空泵（抽速8.3L/s）（总进气量1L/min，该泵可以达到等离子发生真空度） | |
供气系统 | ▪ 四通道进口品牌质量流量计控制系统可实现气体流量的精确控制（精确度：±0.01%）； ▪ 流量范围: 一路0-100 sccm 二路0-200 sccm 三路0-200 sccm 四路0-500 sccm ▪ 电压：208-240V， AC， 50/60Hz； ▪ 气体进出口配件：Φ6.35mm的聚四氟管或不锈钢管； ▪ 不锈钢针阀用于手动控制气体进出； ▪ 集成式PLC触摸屏可以统一简便地进行气体流量设置。 | |
| 液体汽化系统 | 1、液体和气体会在一个蒸发器中加热升华，最高温度达到400℃， 2、与反应腔体之间的蒸汽输出管道为不锈钢管及辅助加热带，加热带最高温度能达到150℃ 3、温控仪表中带有过热和断偶保护 4、控温精度：±10℃ 5、蒸发器额定功率：1.3KW 6、伴热带额定功率：75W 7、定量蒸发器有效容积：50ml（可更具客户要求选配连续供给泵） | |
| 控制系统 | 可预存15条温度曲线，避免不同的实验工艺重复设置带来的麻烦 | |
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| 嵌入式操作系统中英文互换图形界面，7寸真彩触屏输入，智能式人机对话模式实验过程更加直观，操作更加便捷； | ||
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| 非线性式样温度修正；具有预约启动功能 | ||
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| 产品尺寸 | PECVD系统：长1500×高1280×深760mm 蒸发器：长410×高350×深210mm | |
| 重量 | 360kg | |
| 质保 | ▪ 一年质保期，终身维护（不包括炉管、硅胶密封圈和加热元件） ▪ 因使用腐蚀性气体和酸性气体造成的损害不在保修范围内。 | |
